Plasma processing apparatus and plasma processing method

等离子体处理装置和等离子体处理方法

Abstract

在等离子体处理装置(100)中,在基座(2)的上方配备有上侧板(60)和下侧板(61)。上侧板(60)和下侧板(61)由石英等耐热性绝缘体构成,并且相互离开规定的间隔,例如5mm,平行设置,具有多个贯通孔(60a)或(61a)。在重叠两片板的状态下,使它们错开位置形成,使得下侧板(61)的贯通孔(61a)和上侧板(60)的贯通孔(60a)不重合。

Claims

Description

Topics

Download Full PDF Version (Non-Commercial Use)

Patent Citations (1)

    Publication numberPublication dateAssigneeTitle
    CN-1363718-AAugust 14, 2002夏普株式会社, 大见忠弘等离子体加工设备

NO-Patent Citations (0)

    Title

Cited By (0)

    Publication numberPublication dateAssigneeTitle